美方稱 ASML 頂級曝光機可能流入中國，ASML 斷然否認

據彭博報導，美國商務部長 Howard Lutnick 近期在多場會議上向 ASML 高層表示，他擔心這家荷蘭半導體設備商的一台極紫外光（EUV）曝光機可能已落腳中國。EUV 是地表唯一能印出最先進半導體圖樣的工具，自第一任川普政府起，ASML 就被禁止把 EUV 賣給中國。若真有機台流入，等於是出口管制的重大破口。

這項指控分量不輕，卻卡在「拿不出證據」。資深官員告訴彭博，他們手上有 ASML 把 EUV 相關零組件與運輸設備運往中國的證據，但反覆拒絕出示——不論對彭博還是對 ASML 本身。ASML 則明白否認，強調中國境內沒有、也從來沒有過這樣的機台。商務部對彭博的查證沒有回應。雙方各執一詞，目前更像一場互信的角力。

把這件事放進大局看，它和今天另一條新聞遙相呼應：當開源模型逼近閉源、AI 軍備競賽白熱化，能造出最先進晶片的設備就成了地緣政治的咽喉。EUV 只有 ASML 做得出來，這讓荷蘭與這家公司被夾在美中之間。無論最後查出什麼，這場風波都會讓 ASML 的每一筆出貨被放在放大鏡下檢視，也讓全球晶片供應鏈的政治風險再升一級。